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新着情報一覧

2015.10.04

第45回インターネプコンジャパンに出展予定。

日程:2016年1月13日(水)~15日(金) 会場:東京ビッグサイト ブース番号:E2-14

2015.10.04

SEMICON Japan 2015に出展予定。

日程:2015年12月16日(水)~18日(金) 開催場所:東京ビッグサイト ブース番号:1909-1(ドイツ パビリオン内)

2015.10.04

PRODUCTRONICA innovation award 2015に出展予定。

日程:2015年11月10日(火)~13日(金) 開催場所:MUNICH MESSE(ドイツ、ミュンヘン)

2015.08.03

応用物理学会(JSAP EXPO Autumn 2015)に出展予定。

日時:2015年9月13日(日)~9月16日(水) 場所:名古屋国際会議場 愛知県名古屋市熱田区熱田西町1番1号 ・真空・プロセスガス対応 高速アニール加熱装置(モデル RTP-150) ・ギ酸還元対応 卓上型真空はんだリフロー装置(モデル RSS-450-210)

2015.08.03

IEEE International 3D System Integration Conference 2015に出展予定。

日時:2015年8月31日(月)~9月2日(水) 場所:仙台国際センター会議棟 宮城県仙台市青葉区青葉山無番地 (東北大学 青葉山キャンパス内)

2015.05.23

JISSO PROTEC(JPCA Show)2015に出展予定。

日程:2015年6月3日(水)~6月5日(金) 時間:10:00~17:00 開催場所:東京ビッグサイト 東ホール 弊社ブース:東4ホール 4E-22

2015.01.11

インライン対応型 高速アニール加熱炉 VPO-1000-300

タッチパネル式 トップローディング方式を採用した、真空プロセス高速加熱炉 Φ300 mm(12インチ)ウエハー対応

2015.01.11

インライン対応型 ギ酸・水素還元両対応 真空はんだリフロー装置 VSS-450-300

タッチパネル式 トップローディング方式を採用した、真空はんだリフロー装置

2015.01.11

フロントローディング型 高速アニール炉 RTP‐100

タッチパネル式 Φ4インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム 試作開発用途に最適

2015.01.11

フロントローディング型 高速アニール炉 RTP‐150

タッチパネル式 Φ6インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム 試作開発用途に最適

2015.01.11

フロントローディング型 高速アニール炉 RTPシリーズのページを更新しました。

タッチパネル式 Φ6インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム。RTP-150タッチパネル式 Φ4インチ対応真空・プロセスガス高速アニール加熱システム RTP-100

2015.01.05

第44回インターネプコンジャパンに出展予定。

日程:2014年1月15日(水)~17日(金) 時間:10:00~18:00 会場:東京ビッグサイト ブース番号:東1-36

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