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日程：2026年12月9日（水）～11日（金）１０：００～１７：００ 会場：幕張メッセ ホール ブース番号：E7829

▼展示会概要
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SEMICON Japan 2026
会期：2026年12月9日 (水) 〜 12月11日 (金)
時間：10:00 〜 17:00
会場：東京ビッグサイト
ブース番号：E7289

展示品：

【ギ酸・水素還元両対応 リフロー装置】 RSS-210-SC

•   ギ酸や水素で還元に対応することでフラックスレスで酸化膜除去。
•   真空チャンバー搭載、最大0.01%のボイドレスを実現。接合強度の向上も。

【タッチパネル式 真空・プロセスガス高速アニール加熱装置 RTP-150 】

• 卓上型サイズながら、最大到達温度1000℃を実現した真空プロセス高速加熱炉です。
• 窒素ガスパージ、酸素ガスパージ、フォーミングガス（水素＋窒素）パージなどに対応します。